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產(chǎn)品詳細頁

全自動游離二氧化硅前處理工作站

簡要描述:全自動游離二氧化硅前處理工作站的工作原理通?;谝欢ǖ幕瘜W反應和物理分離技術。在焦磷酸法中,工作站會自動加入樣本和焦磷酸,并進行加熱消解、注水、清洗、過濾分離等處理步驟。這些步驟均通過自動控制系統(tǒng)實現(xiàn),無需人工干預。

  • 產(chǎn)品型號:HD-Si12
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-11-27
  • 訪  問  量:91

產(chǎn)品介紹

全自動游離二氧化硅前處理工作站,依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標準《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定第4部分:游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟,自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復溫、自動過濾、自動清洗等功能,整個過程無需人員值守,實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

主要技術參數(shù):
*2.1全自動一體機,自動完成加焦磷酸、消解、降溫、過濾、清洗等實驗步驟,滿足國標要求,保證數(shù)據(jù)準確性。
*2.2儀器具有加水后復溫功能,過濾過程中,可對液體實時混勻,混勻速度可調(diào)。
*2.3配備≥12個樣本位,≥12個過濾位。特制玻璃樣品杯,保障樣品快速均勻加熱,特制過濾裝置,耐酸堿耐高溫,實現(xiàn)快速過濾。樣本可連續(xù)上機,實現(xiàn)不停機做樣。
2.4運行過程中無需轉移樣品,減少樣品在不同器皿之間轉移過程中的損失。
2.5儀器可以自動添加焦磷酸至樣品中,無需手工添加。
2.6儀器具有自動降溫功能,消解后樣品架離開加熱位,完成快速降溫。
2.7自動控溫加熱,10min內(nèi)液體升溫至245℃,15分鐘保持在245℃-250℃。
*2.8采用雙感溫控探頭,實時監(jiān)控液體溫度,控溫精度±0.1℃。
2.9儀器采用一體恒溫加熱模組,各加熱位溫度均勻一致。
2.10儀器采用耐酸堿高精度計量泵,加液精度<1%。
2.11特制攪拌棒,攪拌測溫一體設計,攪拌速度可調(diào)節(jié),保證樣品攪拌均勻。
2.12具有磷酸制備焦磷酸功能,可自動加磷酸,在線制備焦磷酸。
*2.13采用負壓過濾系統(tǒng),兩個樣品可同時過濾,滴液速度和負壓大小均可調(diào)節(jié),快速安全。
2.14儀器內(nèi)置調(diào)試軟件,自動校準加液精度。
2.15儀器自動使用0.1mol/L鹽酸和高溫純化水沖洗樣品杯和殘渣,用戶還可根據(jù)需要選擇清洗次數(shù)和清洗量,足量清洗,提高結果準確性。
*2.16采用噴頭噴淋清洗樣品杯,保證清洗全部無殘留。
2.17儀器具有排風裝置,可自動對接排風管道,也可置于通風櫥內(nèi)使用。
2.18儀器具有試劑液量消耗監(jiān)控,低于預警值能夠實現(xiàn)人性化提醒,確保實驗有效進行。
2.19儀器內(nèi)置觸摸屏電腦,軟件自動控制,直接編輯輸入信息,無需人工干預。
2.20實驗過程全流程可視,軟件可直觀顯示當前實驗狀態(tài)和進度。
2.21實驗過程中溫度實時顯示,并自動記錄消解攪拌時間。
2.22安全性保護:儀器具有消解加熱過溫保護,整機設備(空氣開關)漏電過流保護。
2.23儀器自動記錄實驗各環(huán)節(jié)過程參數(shù),形成實驗過程記錄,并可支持數(shù)據(jù)打印,導出,數(shù)據(jù)儲存量≥10000組。
2.24儀器支持U盤升級,也可選配遠程升級功能,簡化設備固件升級流程,一鍵升級。


主要配置清單:
3.1全自動游離二氧化硅前處理工作站主機1臺
3.2特制樣品杯12個
3.3特制過濾裝置12個
3.4硅膠管1套
3.5廢液桶1個
3.6試劑桶1個
3.7實驗用水自動加熱恒溫裝置1套
3.8系統(tǒng)控制軟件1套
3.9慢性定量濾紙1盒
3.10自動加焦磷酸裝置(選配)1套


使用與維護:
使用注意事項:
在使用前,應仔細閱讀儀器說明書,了解儀器的操作方法和注意事項。
按照說明書中的要求準備樣品和試劑,并確保樣品和試劑的質量符合分析要求。
在操作過程中,應注意觀察儀器的運行狀態(tài)和反應情況,及時發(fā)現(xiàn)并處理異常情況。
維護保養(yǎng):
定期對儀器進行清潔和保養(yǎng),確保儀器的清潔度和性能。
定期檢查儀器的各個部件和連接處是否松動或損壞,并及時進行修復或更換。
長期不使用時,應將儀器存放在干燥、通風、無腐蝕性氣體的環(huán)境中,以確保儀器的長期穩(wěn)定性。

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